各有关单位:
2016年度武汉市知识产权发展计划资助工作已经启动,有关事宜通知如下:
一、专利资助类(中国发明专利授权与集成电路布图设计专有权登记资助)
1、政策标准
发明专利:以第一专利权人为准,单位为5000元/件,个人为1500元/件。
集成电路布图设计登记:单位为1000元/件。
2、资助时段:
2015年9月1日--2016年8月31日。
3、资助对象及申报条件:
(1)发明专利申请公布的地址在本市行政区域范围内。
(2)申报单位是在本市注册登记的单位。
二、申报要求:
请将本资助时段的发明专利和集成电路布图设计专有权原件于2016年9月13日前交产学研合作与成果处,同时将专利资助清单电子版发给产学研合作与成果处。
联系人:丁子福
联系电话:63374890
附件1:通知/uploadfiles/file/20160909/1!20160909093822658.rar
附件2:专利资助清单/uploadfiles/file/20160909/1!20160909103111643.doc